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Last Updated :2024/04/12

篠原 正典

工学部
教授

研究者情報

■ 学位
  • 博士(工学), 東北大学
■ 研究キーワード
  • プラズマ-表面相互作用
  • Interaction of plasma with surface
■ 研究分野
  • ナノテク・材料, 薄膜、表面界面物性
  • エネルギー, プラズマ科学
  • エネルギー, プラズマ応用科学

経歴

■ 経歴
  • 2009年 - 2011年
    長崎大学大学院生産科学研究科システム科学専攻環境システム科学 助教, Graduate School of Science and Technology, Department of Systems Science
  • 2009年 - 2011年
    Assistant Professor,Environmental Systems Science,Environmental Systems Science,System Science,Graduate School of Science and Technology,Nagasaki University
  • 2011年
    長崎大学大学院工学研究科電気・情報科学部門 助教, Graduate school of Engineering
  • 2011年
    Assistant Professor,Division of Electrical Engineering and Computer Science,Graduate school of Engineering,Nagasaki University
  • 2010年
    バーリ大学化学科 客員研究員
  • 2010年
    Visiting Researcher,University of Bari
  • 2007年 - 2009年
    長崎大学工学部電気情報工学講座 助教, Faculty of Engineering
  • 2007年 - 2009年
    Assistant Professor,Electrical and Electronic ,Faculty of Engineering,Nagasaki University
  • 2002年 - 2007年
    長崎大学工学部電気電子工学科 助手, Faculty of Engineering, Department of Electrical and Electronic Engineering
  • 2002年 - 2007年
    Research Associate,Electrical and Electronic Engineering,Faculty of Engineering,Nagasaki University
  • 2004年 - 2005年
    ウィスコンシン大学マディソン校 客員研究員
  • 2004年 - 2005年
    Visiting Researcher,University of Wisconsin-Madison
  • 2003年 - 2004年
    東北大学電気通信研究所 研究員
  • 2003年 - 2004年
    Researcher,Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
■ 委員歴
  • 2009年 - 2011年
    表面科学 編集委員, 表面科学会
  • 2009年 - 2010年
    学術講演会 現地実行委員, 応用物理学会
  • 2009年
    表面科学会 編集委員会
  • 2009年
    Society of Japan Surface Science
  • 2004年 - 2006年
    プラズマ・核融合学会 「プラズマ-物質相互作用の科学」専門委員会 プラズマ・核融合学会「プラズマ-物質相互作用の科学」専門委員会委員(2004-2006)
  • 2003年 - 2004年
    プラズマエレクトロニクス分科会幹事, 応用物理学会
  • 2003年 - 2004年
    Division of Plasma Electronics, The Japan Society of Applied Physics, Society of Applied Phyics
  • 2003年
    国際ワークショップ「プラズマナノテクノロジー」実行委員会 幹事, 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会

研究活動情報

■ 受賞
  • 2007年
    日本MRS学会奨励賞
■ MISC
  • Investigation on Reactions of Hydrogen Plasma with Si surface, using infrared absorption spectroscopy in multiple internal reflection geometry (MIR-IRAS)
    M. Shinohara; K. Hara; Y. Takami; Y. Takaki; Y. Matsuda; H. Fujiyama
    Proceedings of IC-PLANTS2012, 2012年
  • Bias Dependent Reactions of a Si(110) Substrate on Irradiation of Hydrogen Plasma
    Y. Takami; K. Hara; Y. Takaki; M. Shinohara; Y. Matsuda; H. Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Substrate Temperature Effect in the Interaction of Hydrogen Plasma with a Silicon Surface
    Kojiro Hara; Yoshiki Takami; Yuya Takaki; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Substrate Temperature Effect in the Interaction of Hydrogen Plasma with a Silicon Surface
    Kojiro Hara; Yoshiki Takami; Yuya Takaki; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Development of Multi Wire Stripper with Line-shaped Magnetron Plasmas
    Y. Kobayashi; N. Matsuo; K Miyazaki; S. Nishiyama; M. Shinohara; H. Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Wire Temperature in Removal of Brass Plating on Surface of Saw Wire by Coaxial Magnetron Plasmas
    Naoshi Matsuo; Yusuke Kobayashi; Shin-ichiro Nishiyama; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Spectral Analysis of Sputtered Atoms by Optical Emission Spectroscopy
    K. Miyazaki; Y. Kobayashi; N. Matsuo; S. Nishiyama; M. Shinohara; H. Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Analysis of Atmospheric Pressure Plasma Reaction Process
    Katsuhiro Amano; Akihiro Fukae; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films
    Yuya TAKAKI; Kojiro HARA; Yoshiki TAKAMI; Masanori SHINOHARA; Yoshinobu MATSUDA; Hiroshi FUJIYAMA
    Proceedings of Plasma Conference 2011, 2011年
  • FINE WIRE STRIPPING BY TRIANGLE-TYPE MAGNETRON PLASMAS
    H. Fujiyama; N. Matsuo; Y. Kobayashi; K. Miyazaki; M. Shinohara; S. Nishiyama
    Proceedings of International Workshop on Nanotechnology and Applications, 2011年
  • In-situ infrared spectroscopy of oxidation process of amorphous carbon film, depending on substrate temperatures
    Masanori Shinohara; Yu-ji Takaki; Ko-jiro Hara; Yoshiki Takami; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Virtual proceedings of AVS-58, 2011年
  • Reaction process of Si surfaces with hydrogen plasm
    Ko-jiro Hara; Masanori Shinohara; Yoshiki Takami; Yu-ji Takaki; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Virtual proceedings of AVS-58, 2011年
  • In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions
    M. Shinohara; K. Hara; Y. Takami; Y. Takaki; A. Fukae; K. Amano; Y. Matsuda; H. Fujiyama
    Proceedings of AEPSE2011, 2011年
  • Fine Wire Stripping by Triangle-type Magnetron Plasmas
    H. Fujiyama; N. Matsuo; Y. Kobayashi; M. Shinohara; S. Nishiyama; N. Iwamoto
    Proceedings of AEPSE2011, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on a Reaction of Hydrogen Plasma with Si(110) surface
    Masanori Shinohara; Ko-jiro Hara; Yoshiki Takami; Yu-ya Takaki; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Transactions of MRS-Japan, 2011年
  • 1. Investigation on Reactions of Hydrogen Plasma with Si surface, using infrared absorption spectroscopy in multiple internal reflection geometry (MIR-IRAS)
    M. Shinohara; K. Hara; Y. Takami; Y. Takaki; Y. Matsuda; H. Fujiyama
    Proceedingd of IC-PLANTS, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on a Reaction of Hydrogen Plasma with Si(110) surface
    Shinohara Masanori; Hara Ko-jiro; Takami Yoshiki; Takaki Yu-ya; Matsuda Yoshinobu; Fujiyama Hiroshi
    Transactions of the Materials Research Society of Japan, 2011年
  • 1. Investigation on Reactions of Hydrogen Plasma with Si surface, using infrared absorption spectroscopy in multiple internal reflection geometry (MIR-IRAS)
    2011年
  • Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases
    Masanori Shinohara; Hiroki Kawazoe; Takanori Inayoshi; Taka-aki Kawakami; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    THIN SOLID FILMS, 2010年04月
  • Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases
    Masanori Shinohara; Hiroki Kawazoe; Takanori Inayoshi; Taka-aki Kawakami; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    THIN SOLID FILMS, 2010年04月
  • Deposition of transparent conducting Al-doped ZnO thin films by ICP-assisted sputtering
    Ryota Shindo; Tadashi Iwata; Akinori Hirashima; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda
    IEEE Region 10 Annual International Conference, Proceedings/TENCON, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Oxidation of Carbon Related Materials for Environmental Solution
    Taka-aki Kawakami; Masanori Shinohara; Kojiro Hara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition
    Yoshinobu Matsuda; Hiroaki Kitagawa; Kenji Mine; Masanori.Shinohara
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Substrate temperature effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma, investigated infrared spectroscopy
    Kojiro Hara; Taka-aki Kawakam; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amor・・・
    Masanori Shinohara; Taka-aki Kawakami; Kojiro Hara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    Yoshinobu Matsuda; Ryota Shindo; Akinori Hirashima; Masanori.Shinohara
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • アモルファス炭素膜のプラズマ気相化学堆積過程の観察
    篠原正典; 松田良信; 藤山寛; 中谷達行
    表面科学, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction
    Masanori Shinohara; Taka-aki Kawakami; Kojiro Hara; Hiroshi Fujiyama; Yoshinobu Matsuda; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    TENCON 2010: 2010 IEEE REGION 10 CONFERENCE, 2010年
  • Plasma Generation in Organic Solvent for Amorphous Carbon Film Deposition
    Masanori Shinohara; Shuai Zhang; Kenji Kotani; Kazuhiko Akaki; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Transactions of MRS-Japan, 2010年
  • Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy
    Masanori Shinohara; Hiroki Kawazoe; Taka-aki Kawakami; Takanori Inayoshi; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Transactions of MRS-Japan, 2010年
  • アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の成膜過程の赤外分光解析
    篠原正典; 川副大樹; 稲吉孝紀; 河上貴聡; 原幸治郎; 松田良信; 藤山寛; 新田祐樹; 中谷達行
    表面科学, 2010年
  • Deposition of transparent conducting Al-doped ZnO thin films by ICP-assisted sputtering
    Ryota Shindo; Tadashi Iwata; Akinori Hirashima; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda
    IEEE Region 10 Annual International Conference, Proceedings/TENCON, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Oxidation of Carbon Related Materials for Environmental Solution
    YTaka-aki Kawakami; Masanori Shinohara; Kojiro Hara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition
    Yoshinobu Matsuda; Hiroaki Kitagawa; Kenji Mine; Masanori.Shinohara
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Substrate temperature effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma, investigated infrared spectroscopy
    Kojiro Hara; Taka-aki Kawakam; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amor・・・
    Masanori Shinohara; Taka-aki Kawakami; Kojiro Hara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    Yoshinobu Matsuda; Ryota Shindo; Akinori Hirashima; Masanori.Shinohara
    Proceedings of the 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas, 2010年
  • Observation of Plasma Chemical Vapor Deposition Process of Amorphous Carbon Film
    Masanori SHINOHARA; Yoshinobu MATSUDA; Hiroshi FUJIYAMA; Tatsuyuki NAKATANI
    Journal os the Surface Science Society of Japan, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction
    Masanori Shinohara; Taka-aki Kawakami; Kojiro Hara; Hiroshi Fujiyama; Yoshinobu Matsuda; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    TENCON 2010: 2010 IEEE REGION 10 CONFERENCE, 2010年
  • Plasma Generation in Organic Solvent for Amorphous Carbon Film Deposition
    Masanori Shinohara; Shuai Zhang; Kenji Kotani; Kazuhiko Akaki; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Transactions of MRS-Japan, 2010年
  • Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition Process during Acetylene Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy
    Masanori Shinohara; Hiroki Kawazoe; Taka-aki Kawakami; Takanori Inayoshi; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    Transactions of MRS-Japan, 2010年
  • Infrared spectroscopy pf amorphous carbon film deposition process using acetylene plasma
    M. Shinohara; H. Kawazoe; T. Inayoshi; T. Kawakami; K. Hara; Y. Matsuda; H. Fujiyama; Y. Nitta; T. Nakatani
    Journal of the Surface Science of Japana, 2010年
  • Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Yoshinobu Matsuda; Takanori Inayoshi; Hiroki Kawazoe; Hiroshi Fujiyama; Yuuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2009年07月
  • Substrate temperature effects on amorphous carbon film growth, investigated by infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Yoshinobu Matsuda; Takanori Inayoshi; Hiroki Kawazoe; Hiroshi Fujiyama; Yuuki Nitta; Tatsuyuki Nakatani
    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2009年07月
  • Interaction between hydrogen plasma and hydrogenated amorphous carbon film, investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Hiromichi Shibata; Keishi Okamoto; Tatsuyuki Nakatani; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    THIN SOLID FILMS, 2008年05月
  • Interaction between hydrogen plasma and hydrogenated amorphous carbon film, investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Hiromichi Shibata; Keishi Okamoto; Tatsuyuki Nakatani; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    THIN SOLID FILMS, 2008年05月
  • アモルファス炭素膜の成膜機構
    柴田泰充; 篠原正典; 片桐輝昭; 岩辻圭太郎; 松田良信; 藤山 寛
    電気学会研究会資料、プラズマ研究会, 2008年
  • growth process of amorphous carbon films
    Hiromichi Shibata; Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    The papers of Technical Meetings on Plasma Science and Tecvhnology, IEE Japan, 2008年
  • Investigation of evolution hydrocarbon species on a Si surface during methane plasma with and without substrate bias, using infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry
    Masanori Shinohara; Hiromichi Shibata; Ken Cho; Tatsuyuki Nakatani; Keishi Okamoto; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    APPLIED SURFACE SCIENCE, 2007年05月
  • Investigation of evolution hydrocarbon species on a Si surface during methane plasma with and without substrate bias, using infrared spectroscopy in multiple internal reflection geometry
    Masanori Shinohara; Hiromichi Shibata; Ken Cho; Tatsuyuki Nakatani; Keishi Okamoto; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    APPLIED SURFACE SCIENCE, 2007年05月
  • SiH4 adsorption on SiGe(0 0 1)
    F. Hirose; M. Shinohara; Y. Kimura; M. Niwano
    Surface Science, 2007年02月15日
  • SiH4 adsorption on SiGe(001)
    F. Hirose; M. Shinohara; Y. Kimura; M. Niwano
    SURFACE SCIENCE, 2007年02月
  • プラズマ成膜プロセスにおけるサブサーフェスでの反応過程解析
    篠原正典; 藤山 寛
    Journal of Plasma Fusion Research, 2007年
  • Dependence of adsorption of hydrocarbon species generated in a methane plasma on substrate temperatures
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Tatsuyuki Nakatani; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2007年
  • Effects of hydrogen plasma treatment on amorphous carbon films
    Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Keishi Okamoto; Tatsuyuki Nakatani
    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2007年
  • Comparison of H density in Hydrogen/Ar and Methane/Ar ICPs
    Yoshinobu Matsuda; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2007年
  • Deposition of AZO Thin Films by ICP Assisted Magnetron Sputtering
    Shiro Iwai; Yoshinobu Matsuda; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    第25回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2007年
  • Effects of Substrate Temperatures on Adsorption of Hydrocarbon Species Generated in Methane Plasma
    Masanori Shinohara; Ken Cho; Yoshinobu. Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Keishi Okamoto; Tatsuyuki Nakatani
    Transaction of MRS-J, 2007年
  • Investigattion of Reactions at the Subsurface in Plasma Deposition Process
    M. Shinohara; H. Fujiyama
    2007年
  • Dependence of adsorption of hydrocarbon species generated in a methane plasma on substrate temperatures
    Proceedings of The 25th Symposium on Plasma Processing, 2007年
  • Effects of hydrogen plasma treatment on amorphous carbon films
    Proceedings of The 25th Symposium on Plasma Processing, 2007年
  • Comparison of H density in Hydrogen/Ar and Methane/Ar ICPs
    Proceedings of The 25th Symposium on Plasma Processing, 2007年
  • Deposition of AZO Thin Films by ICP Assisted Magnetron Sputtering
    Proceedings of The 25th Symposium on Plasma Processing, 2007年
  • Effects of Substrate Temperatures on Adsorption of Hydrocarbon Species Generated in Methane Plasma
    2007年
  • Hydrogen desorption from SiH4 adsorbed SiGe(001) surfaces
    F Hirose; Y Kimura; M Shinohara; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2006年06月
  • Hydrogen desorption from SiH4 adsorbed SiGe(001) surfaces
    F Hirose; Y Kimura; M Shinohara; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2006年06月
  • EVOLUTION OF HYDRIDE SPECIES ON SILICON SURFACE DURING PLASMA AND POST-ANNEALING
    Masanori SHINOHARA; Hiromichi SHIBATA; Jun-ichi HAYASHI; Yoshinobu MATSUDA; Hiroshi FUJIYAMA
    proceedings of JSST2006, 2006年
  • SPUTTER DEPOSITION OF AZO THIN FILMS ASSISTED WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA
    Yoshinobu MATSUDA; Yoshichika NAGANO; Shiro IWAI; Masanori SHINOHARA; Hiroshi FUJIYAMA
    proceedings of JSST2006, 2006年
  • FUNCTIONAL SPUTTER-COATINGS OF INNER SURFACE OF NARROW TUBES BY THE SECOND HARMONIC ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA
    Hiroshi FUJIYAMA; Tatsuyuki NAKATANI; Hiroshige UCHIDA; Yuuki NITTA; Yoshinobu. MATSUDA; Masanori SHINOHARA
    proceedings of JSST2006, 2006年
  • 医療用ツールへの応用を目指した極細管内壁コーティング法の開発
    藤山 寛; 中谷達行; 新田祐樹; 篠原正典
    表面技術協会ナノテク部会 第14回研究会資料, 2006年
  • PECVD法による炭素系薄膜形成の理解のためのリアルタイム赤外分光解析
    篠原正典; 松田良信; 藤山 寛; 中谷達行
    表面技術協会ナノテク部会 第14回研究会資料, 2006年
  • 31. Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering
    Yoshinobu Matsuda; Yoshichika Nagano; Shiro Iwai; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing, 2006年
  • Controllability of bonding configurations of hydrocarbon species in amorphous carbon films
    M. Shinohara; H. Shibata; J. Hayashi; H. Shimada; Y. Matsuda; H. Fujiyama
    proceedings of 6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing, 2006年
  • EVOLUTION OF HYDRIDE SPECIES ON SILICON SURFACE DURING PLASMA AND POST-ANNEALING
    2006年
  • SPUTTER DEPOSITION OF AZO THIN FILMS ASSISTED WITH INDUCTIVELY COUPLED PLASMA
    2006年
  • FUNCTIONAL SPUTTER-COATINGS OF INNER SURFACE OF NARROW TUBES BY THE SECOND HARMONIC ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA
    2006年
  • 31. Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering
    2006年
  • Controllability of bonding configurations of hydrocarbon species in amorphous carbon films
    2006年
  • Optical emission studies of atomic and ionic species in the ionized sputter-deposition process of magnesium oxide thin films
    Y Matsuda; Y Koyama; M Iwaya; M Shinohara; H Fujiyama
    THIN SOLID FILMS, 2005年03月
  • Oxidation of the hydrogen terminated silicon surfaces by oxygen plasma investigated by in-situ infrared spectroscopy
    M Shinohara; T Katagiri; K Iwatsuji; Y Matsuda; H Fujiyama; Y Kimura; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2005年03月
  • Optical emission studies of atomic and ionic species in the ionized sputter-deposition process of magnesium oxide thin films
    Y Matsuda; Y Koyama; M Iwaya; M Shinohara; H Fujiyama
    THIN SOLID FILMS, 2005年03月
  • Oxidation of the hydrogen terminated silicon surfaces by oxygen plasma investigated by in-situ infrared spectroscopy
    M Shinohara; T Katagiri; K Iwatsuji; Y Matsuda; H Fujiyama; Y Kimura; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2005年03月
  • The 2nd Harmonic ECR Low Pressure Micro Plasmas
    H. Fujiyama; H. Inoue; D. Kurogi; Y. Furue; M. Shinohara; Y. Matsuda
    17th International symposium on plasma chemistry Abstracts and full-papers, 2005年
  • Narrow Tube Inner Coating by Low Pressure Micro Plasma Sputtering
    H. Uchida; M. Kumamoto; H. Fujiyama; M. Shinohara; Y. Matsuda
    17th International symposium on plasma chemistry Abstracts and full-papers, 2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    H. Shibata; T. Katagiri; K. Iwatsuji; M. Shinohara; Y.Matsuda; H. Fujiyama
    proceedings of 17th International symposium on plasma chemistry, 2005年
  • マイクロホロカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
    井手義行; 篠原正典; 松田良信; 藤山寛
    長崎大学工学部研究報告, 2005年
  • 多重外部反射赤外分光法の開発
    倉本宰弘; 篠原正典; 松田良信; 藤山寛
    長崎大学工学部研究報告, 2005年
  • 細菅内壁コーティングのためのヘリコン波プラズマ源の開発
    小島裕爾; 篠原正典; 松田良信; 藤山寛
    長崎大学工学部研究報告, 2005年
  • Oxide Thin Film Deposition Using Inductively-Coupled Plasma Assisted Sputtering
    M. Iwaya; M. Hokamura; T. Kawakami; Y. Nagano; Y. Matsuda; M. Shinohara; H. Fujiyama
    Proceedings of Plasma Science Symposium, 2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    岩辻圭太郎; 片桐輝昭; 柴田泰充; 篠原正典; 松田良信; 藤山寛
    プラズマ科学シンポジウム/第22回プラズマプロセシング研究会 プロシーディングス, 2005年
  • Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
    M Shinohara; T Katagiri; K Iwatsuji; Y Matsuda; Y Kimura; M Niwano; H Fujiyama
    JOURNAL OF ADVANCED OXIDATION TECHNOLOGIES, 2005年01月
  • The 2nd Harmonic ECR Low Pressure Micro Plasmas
    2005年
  • Narrow Tube Inner Coating by Low Pressure Micro Plasma Sputtering
    2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    H. Shibata; T. Katagiri; K. Iwatsuji; M. Shinohara; Y.Matsuda; H. Fujiyama
    proceedings of 17th International symposium on plasma chemistry, 2005年
  • マイクロホローカソード光源を用いた真空紫外吸収分光法の開発
    井手 義行; 篠原 正典; 松田 良信; 藤山 寛
    長崎大学工学部研究報告, 2005年
  • A Development of Multiple External Reflection infrared Spectroscopy
    Tadahiro Kuramoto; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Reports of The faculty of Engineering Nagasaki University, 2005年
  • Development of Helicon Plasama Source for the Inside Wall Coating of Narrow Tubes
    Yuji Kojima; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Reports of The faculty of Engineering Nagasaki University, 2005年
  • Oxide Thin Film Deposition Using Inductively-Coupled Plasma Assisted Sputtering
    2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    Keitaro Iwatsuji; Teruaki Katagiri; Hiromichi Shibata; Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    Proceedings of Plasma Science Symposium 2005 / The 22nd Symposium on Plasma Processing, 2005年
  • Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Yasuo Kimura; Michio Niwano; Hiroshi Fujiyama
    J. Adv. Oxid. Technol., 2005年
  • Oxygen-plasma induced hydrogen desorption from hydrogen-terminated Si(100) and (111) surfaces investigated by infrared spectroscopy
    M Shinohara; T Katagiri; K Iwatsuji; Y Matsuda; H Fujiyama; Y Kimura; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2004年10月
  • Oxygen-plasma induced hydrogen desorption from hydrogen-terminated Si(100) and (111) surfaces investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    Thin Solid Films, 2004年10月
  • メタンプラズマCVD法による薄膜形成過程の赤外分光解析
    柴田泰充; 篠原正典; 片桐輝昭; 岩辻圭太郎; 松田良信; 藤山 寛
    電気学会研究会資料、, 2004年
  • GROWTH PROCESS OF DLC FILMS INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yasutomo Shibata; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    proceedings of JSST 2004, 2004年
  • Dynamics of Si Surface-hydrogen during Oxygen-plasma
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    proceedings of plasma Nano-technology, 2004年
  • Behavior of hydrogen on Si surface during oxygen-plasma
    篠原正典; 松田良信; 藤山 寛; 木村康男; 庭野道夫
    第21回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2004年
  • Effect of inductively-coupled plasma assist on the crystal orientation of magnesium oxide thim films produced by reactive sputtering
    Y. Matsuda; M. Iwaya; Y. Koyama; M. Shinohara; H. Fujiyama
    Thin Solid Films, 2004年
  • 酸素プラズマ中でのSi表面水素の挙動
    篠原正典; 片桐輝昭; 岩辻圭太郎; 松田良信; 藤山寛; 木村康男; 庭野道夫
    表面科学, 2004年
  • Infrared spectroscopy of growth process of diamond like carbon film using methane plasma-CVD
    Hiromichi Shibata; Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    2004年
  • GROWTH PROCESS OF DLC FILMS INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yasutomo Shibata; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    proceedings of JSST 2004, 2004年
  • Dynamics of Si Surface-hydrogen during Oxygen-plasma
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    proceedings of plasma Nano-technology, 2004年
  • Behavior of hydrogen on Si surface during oxygen-plasma
    Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    Proceedings of The 21th Symposium on Plasma Processing, 2004年
  • Effect of inductively-coupled plasma assist on the crystal orientation of magnesium oxide thim films produced by reactive sputtering
    2004年
  • 酸素プラズマ中でのSi表面水素の拳動
    篠原 正典; 片桐 輝昭; 岩辻 圭太郎; 松田 良信; 藤山 寛; 木村 康男; 庭野 道夫
    表面科学 = Journal of The Surface Science Society of Japan, 2004年
  • Behavior of hydride species on Si surface during methane plasma irradiation investigated by in-situ infrared spectroscopy
    M Shinohara; T Kuwano; Y Kimura; M Niwano
    THIN SOLID FILMS, 2003年07月
  • Behavior of hydride species on Si surface during methane plasma irradiation investigated by in-situ infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Takayuki Kuwano; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    Thin Solid Films, 2003年07月01日
  • In-situ observation of chemical states of a Si electrode surface during a galvanostatic oscillation in fluoride electrolytes using infrared absorption spectroscopy
    Y Kimura; J Nemoto; M Shinohara; M Niwano
    PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH, 2003年05月
  • X-ray diffraction of magnesium oxide thin films produced by reactive ionized sputtering
    Y. Matsuda; Y. Koyama; M. Iwaya; M. Shinohara; H. Fujiyama
    電気学会研究会資料, 2003年
  • Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Yasuo Kimura; Michio Niwano; Hiroshi Fujiyama
    電気学会研究会資料、, 2003年
  • 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
    馬場健次; 篠原正典; 藤山寛; 山本恭一; 宇山春夫
    長崎大学工学部研究報告, 2003年
  • MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
    小山悠; 岩谷勝; 篠原正典; 松田良信; 藤山寛
    長崎大学工学部研究報告, 2003年
  • 基板表面磁界がスパッタ薄膜結晶配向性に及ぼす影響
    丸本洋; 松田良信; 篠原正典; 藤山寛
    長崎大学工学部研究報告, 2003年
  • Behavior of hydrogen at Si subsurface
    篠原正典; 松田良信; 藤山 寛; 木村康男; 庭野道夫
    第20回プラズマプロセシング研究会プロシーディングス, 2003年
  • "In-situ observation of chemical states of a Si electrode surface during a galvanostatic oscillation in fluoride electrolytes using infrared absorption spectroscopy"
    Yasuo Kimura; Jun Nemoto; Masanori Shinohara; Michio Niwano
    Surface Review Letters, 2003年
  • ベンゼン分子の吸着過程
    渡辺隼人; 篠原正典; 木村康男; 斎藤峯雄; 庭野道夫
    表面科学, 2003年
  • Interaction of hydrogen-terminated Si(100), (110), and (111) surfaces with hydrogen plasma investigated by in situ real-time infrared absorption spectroscopy
    M Shinohara; T Kuwano; Y Akama; Y Kimura; M Niwano; H Ishida; R Hatakeyama
    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2003年01月
  • X-ray diffraction of magnesium oxide thin films produced by reactive ionized sputtering
    2003年
  • Plasma oxidation process of silicon surfaces investigated by infrared spectroscopy
    Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Yasuo Kimura; Michio Niwano; Hiroshi Fujiyama
    2003年
  • 走査プラズマ法を用いた高分子フィルム上へのZnO薄膜の低温形成
    馬場 健次; 篠原 正典; 藤山 寛; 山本 恭一; 宇山 春夫
    長崎大学工学部研究報告, 2003年
  • MgO薄膜高速成膜のための誘導結合プラズマ支援反応性スパッタリング法の開発
    小山 悠; 岩谷 勝; 篠原 正典; 松田 良信; 藤山 寛
    長崎大学工学部研究報告, 2003年
  • Influence of Magnetic Field near Substrate Surface on Crystak Orientation of Sputtered Thin films
    Hiroshi Marumoto; Yoshinobu Matsuda; Masanori Shinohara; Hiroshi Fujiyama
    Reports of The faculty of Engineering Nagasaki University, 2003年
  • Behavior of hydrogen at Si subsurface
    Masanori Shinohara; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    Proceedings of The 20th Symposium on Plasma Processing, 2003年
  • Adsorption of Benzen on Si(100) Surface
    H. Watanabe; M. Shinohara; Y. Kimura; M. Saito; M. Niwano
    Journal of the Surface Science Society of Japan, 2003年
  • Interaction of hydrogen-terminated Si(100), (110), and (111) surfaces with hydrogen plasma investigated by in situ real-time infrared absorption spectroscopy
    M Shinohara; T Kuwano; Y Akama; Y Kimura; M Niwano; H Ishida; R Hatakeyama
    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2003年01月
  • Infrared spectroscopy study of adsorption of silane on Si(0 0 1)
    Masanori Shinohara; Yasuo Kimura; Mineo Saito; Michio Niwano
    Surface Science, 2002年04月10日
  • Synchrotron radiation photoemission and infrared spectroscopy study of adsorption and decomposition of dichlorosilane on Si(100)(2 x 1)
    N Kamakura; M Shinohara; H Watanabe; T Kuwano; A Seyama; Y Kimura; M Niwano
    SURFACE REVIEW AND LETTERS, 2002年04月
  • Synchrotron radiation photoemission and infrared spectroscopy study of adsorption and decomposition of dichlorosilane on Si(100)(2 x 1)
    Nozomu Kamakura; Masanori Shinohara; Hayato Watanabe; Takayuki Kuwano; Akio Seyama; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    Surface Review and Letters, 2002年04月
  • メタンプラズマCVD法による薄膜形成過程の赤外分光解析
    柴田泰充; 篠原正典; 片桐輝昭; 岩辻圭太郎; 松田良信; 藤山 寛
    電気学会研究会資料、プラズマ研究会, 2002年
  • 水素プラズマ処理効果のSi面方位依存性
    篠原正典; 桑野隆行; 木村康男; 庭野道夫; 松田良信; 藤山 寛
    電気学会研究会資料、, 2002年
  • ダイヤモンド・プラズマCVDの反応機構に関する研究
    桑野隆行; 篠原正典; 木村康男; 庭野道夫
    東北大学電通談話会, 2002年
  • 半導体表面上の有機高分子薄膜形成に関する研究
    渡辺隼人; 篠原正典; 木村康男; 庭野道夫
    東北大学電通談話会, 2002年
  • Infrared reflection spectroscopic investigation of adsorption of SiHx(CH3)(4-x) on Si surfaces
    M Shinohara; D Shoji; T Maehama; Y Akama; M Niwano
    ELECTRONICS AND COMMUNICATIONS IN JAPAN PART II-ELECTRONICS, 2002年
  • "Origin of type-C defects on the Si(100)-(2×1) surface"
    M. Nishizawa; T. Yasuda; S. Yamasaki; K. Miki; M. Shinohara; N. Kamakura; Y. Kimura; M. Niwano
    Physical Review B, 2002年
  • "Formation and decompositon of Si hydride during adsorption of Si2H6 onto Si(100)(2×1)
    M. Shinohara; A. Seyama; Y. Kimura; M. Niwano; M. Saito
    Physical Review B,, 2002年
  • 半導体表面・界面反応の赤外分光観察
    庭野道夫; 篠原正典; 木村康男
    応用物理学会, 2002年
  • "Infrared spectroscopy study of adsorption of silane on Si(100)"
    M. Shinohara; Y. Kimura; M. Saito; M. Niwano
    Surface Science ELSEVIER, 2002年
  • Infrared spectroscopy of growth process of diamond like carbon film using methane plasma-CVD
    Hiromichi Shibata; Masanori Shinohara; Teruaki Katagiri; Keitaro Iwatsuji; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    The papers of Technical Meetings on Plasma Science and Tecvhnology, IEE Japan, 2002年
  • The dependence on the crystallographic orientation of the Si surface with hydrogen plasma treatment
    Masanori Shinohara; Takayuki Kuwano; Yauo Kimura; Michio Niwano; Yoshinobu Matsuda; Hiroshi Fujiyama
    2002年
  • A study of reaction mechanism of diamond plasma CVD
    Takayuki Kuwano; Masanori Shinohara; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    The Record of Elecrical and Cmunication Engineering Conversation, 2002年
  • A study of formation if organic marcromolecules thin films on semiconductor surface
    Hayato Watanabe; Masanori Shinohara; Yasuo Kimura; Michio Niwano
    The Record of Elecrical and Cmunication Engineering Conversation, 2002年
  • Infrared reflection spectroscopic investigation of adsorption of SiHx(CH3)(4-x) on Si surfaces
    M Shinohara; D Shoji; T Maehama; Y Akama; M Niwano
    ELECTRONICS AND COMMUNICATIONS IN JAPAN PART II-ELECTRONICS, 2002年
  • "Origin of type-C defects on the Si(100)-(2×1) surface"
    M. Nishizawa; T. Yasuda; S. Yamasaki; K. Miki; M. Shinohara; N. Kamakura; Y. Kimura; M. Niwano
    Physical Review B, 2002年
  • Formation and decompositon of Si hydride during adsorption of Si2H6 onto Si(100)(2×1)
    M. Shinohara; A. Seyama; Y. Kimura; M. Niwano; M. Saito
    Physical Review B,, 2002年
  • Infrared spectroscopy pbservation of reactions at semiconductor surface and interface
    M. Niwano; M. Shinohara; Y. Kimura
    Surface Science ELSEVIER, 2002年
  • Hydrogen adsorption and desorption processes on Si(100)
    M Terashi; J Kuge; M Shinohara; D Shoji; M Niwano
    APPLIED SURFACE SCIENCE, 1998年06月
  • Hydrogen adsorption and desorption processes on Si(100)
    M Terashi; J Kuge; M Shinohara; D Shoji; M Niwano
    APPLIED SURFACE SCIENCE, 1998年06月
  • Oxidation processes on the H2O chemisorbed Si(100) surface studied by in-situ infrared spectroscopy
    M Niwano; M Terashi; M Shinohara; D Shoji; N Miyamoto
    SURFACE SCIENCE, 1998年04月
  • Oxidation processes on the H2O chemisorbed Si(100) surface studied by in-situ infrared spectroscopy
    M Niwano; M Terashi; M Shinohara; D Shoji; N Miyamoto
    SURFACE SCIENCE, 1998年04月
■ 講演・口頭発表等
  • 水素プラズマ-シリコン結晶の相互作用の基板バイアス効果
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • 水素プラズマによるシリコン結晶のアモルファス化の基板温度依存性
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • 大気圧プラズマでの生成物の解析
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • エッチングプロセスにおけるスパッタ粒子のスペクトル解析
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • 容量結合RFプラズマ重畳DCマグネトロン放電の放電特性
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • リトロー型外部共振器半導体レーザーを用いたAr-ICP中気体温度の吸収分光計測
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第15回支部大会, 2011年
  • プラズマプロセスの赤外分光解析
    電気学会プラズマ研究会, 2011年
  • DLC薄膜のプラズマ酸化過程における基板温度依存性
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2011年
  • マルチ同軸マグネトロンプラズマを用いたソーワイヤのブラスめっき除去プロセスの開発
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2011年
  • プラズマストリッピングプロセスにおけるソーワイヤの温度上昇
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2011年
  • プラズマ気体温度計測用外部共振器型半導体レーザーの製作
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2011年
  • サーマルプローブのパルス応答による基板入射熱流束の測定
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films
    Plasma Conference, 2011年
  • Analysis of Atmospheric Pressure Plasma Reaction Process
    Plasma Conference, 2011年
  • Spectral Analysis of Sputtered Atoms by Optical Emission Spectroscopy
    Plasma Conference, 2011年
  • Wire Temperature in Removal of Brass Plating on Surface of Saw Wire by Coaxial Magnetron Plasmas
    Plasma Conference, 2011年
  • Development of Multi Wire Stripper with Line-shaped Magnetron Plasmas
    Plasma Conference, 2011年
  • Substrate Temperature Effect in the Interaction of Hydrogen Plasma with a Silicon Surface
    Plasma Conference, 2011年
  • Bias Dependent Reactions of a Si(110) Substrate on Irradiation of Hydrogen Plasma
    Plasma Conference, 2011年
  • FINE WIRE STRIPPING BY TRIANGLE-TYPE MAGNETRON PLASMAS
    International Workshop on Nanotechnology and Applications, 2011年
  • Reaction process of Si surfaces with hydrogen plasma
    AVS 58th International Symposium, 2011年
  • In-situ infrared spectroscopy of oxidation process of amorphous carbon film, depending on substrate temperatures
    AVS 58th International Symposium, 2011年
  • In-situ Monitoring of Plasma-induced Reactions with Infrared Spectroscopy
    3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something, 2011年
  • Fine Wire Stripping by Triangle-type Magnetron Plasmas
    The 8th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, 2011年
  • In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions
    The 8th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, 2011年
  • プラズマが誘起する表面反応の赤外分光解析
    電気学会プラズマ研究会, 2011年
  • Thermal Probe Measurements of Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition
    20th International Symposium of Plasma Chemistry, 2011年
  • Absorption Measurement of Sputtered Atom Density during ICP-Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    20th International Symposium of Plasma Chemistry, 2011年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリングにおける基板入射熱流束測定
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • LEDを用いたスパッタAl原子密度の吸収計測
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • マルチプラズマ型ワイヤストリッパーの開発
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • 同軸マグネトロンプラズマを用いたソーワイヤのブラスめっき除去
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • アモルファス炭素薄膜のプラズマ酸化過程における基板温度依存
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • 水素プラズマ‐シリコン表面相互反応のバイアス依存性
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • シリコン基板への水素プラズマ処理効果の基板温度依存性
    九州表面・真空研究会2011(第16回九州薄膜表面研究会), 2011年
  • プラズマーシリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明~3
    新学術領域「プラズマナノ界面」 全体会議, 2011年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタ過程における基板入射熱流束測定
    応用物理学会連合講演会, 2011年
  • 紫外LEDを用いたスパッタAl原子密度の吸収計測(II)
    応用物理学会連合講演会, 2011年
  • シリコンロッド切削用ソーワイヤのプラズマによる高性能化 -ウェットからドライプロセスへ-
    応用物理学会連合講演会, 2011年
  • シリコン基板への水素プラズマ処理効果の赤外分光計測
    応用物理学会連合講演会, 2011年
  • 大気圧プラズマが誘起する反応の赤外吸収分光計測装置の試作
    応用物理学会連合講演会, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on Reaction of Hydrogen Plasma with Si surface
    International Symposium onAdvanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma), 2011年
  • Removal of Brass Plating on Surface of Saw Wire by Three-Phase AC Triangle Plasmas
    apan-Taiwan 4 Universities Joint Symposium on Material Science for Next Generation Energy and Nano Science, 2011年
  • Distribution of Discharge Current Density to Wires in Plasma with Multi Triangle Electrodes for Wire Stripping
    apan-Taiwan 4 Universities Joint Symposium on Material Science for Next Generation Energy and Nano Science, 2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films
    apan-Taiwan 4 Universities Joint Symposium on Material Science for Next Generation Energy and Nano Science, 2011年
  • Dependence of Gap Length on Coaxial Magnetron Type Triangle Plasmas for Wire Stripping
    apan-Taiwan 4 Universities Joint Symposium on Material Science for Next Generation Energy and Nano Science, 2011年
  • Hydrogen Insertion Process into Silicon Crystal from Si(100) Surface
    apan-Taiwan 4 Universities Joint Symposium on Material Science for Next Generation Energy and Nano Science, 2011年
  • プラズマーシリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明3
    新学術領域新学術全体会議, 2011年
  • プラズマプロセスの赤外分光解析
    8. 原子分子光の素過程とプラズマ分光の研究フロンティア」「原子分子データ応用フォーラムセミナー」合同研究会, 2011年
  • プラズマーシリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明2
    新学術領域新学術全体会議, 2011年
  • Substrate Bias Effect on Interaction between Hydrogen plasma and Si crystal
    2011年
  • Substrate temperature dependence of transformation of Si crystal into amorphous phase due to hydrogen Temperature Dependence of transformation of Si crystal into amorphous phase due to hydrogen plasma
    2011年
  • Analysisof Generated Species during atmospheric plasma
    2011年
  • Spectroscopic Analysis of Sputtered atoms in etching process
    2011年
  • Characteristics of Discharge of DC Magnetron Plasma superimposed with Capasitive Coupled RF plasma
    2011年
  • Absorption Spectroscopy of Gas Temperature during Ar-ICP using LITTROW External Resonator Semiconductor Laser system
    2011年
  • Infrared spectroscopic Study of Plasma Process
    2011年
  • Sustrate Temperature Dependence of Plasma Oxidation Process of DLC films
    2011年
  • Development of Removal Process of Blass Plating Using Multi-Coaxial Magnetron Plasma
    2011年
  • Temeprature of Saw wire during plasma strinpping process
    2011年
  • Development of Semiconductor Laser System for Measurement of Plasma gas temperature
    2011年
  • Measurement of thermal flux into substrate using pulse response
    2011年
  • Infrared Spectroscopic Study on Effects of Substrate Temperatures on Oxidation of Amorphous Carbon Films
    2011年
  • Analysis of Atmospheric Pressure Plasma Reaction Process
    2011年
  • Spectral Analysis of Sputtered Atoms by Optical Emission Spectroscopy
    2011年
  • Wire Temperature in Removal of Brass Plating on Surface of Saw Wire by Coaxial Magnetron Plasmas
    2011年
  • Development of Multi Wire Stripper with Line-shaped Magnetron Plasmas
    2011年
  • Substrate Temperature Effect in the Interaction of Hydrogen Plasma with a Silicon Surface
    2011年
  • Bias Dependent Reactions of a Si(110) Substrate on Irradiation of Hydrogen Plasma
    2011年
  • FINE WIRE STRIPPING BY TRIANGLE-TYPE MAGNETRON PLASMAS
    2011年
  • Reaction process of Si surfaces with hydrogen plasma
    2011年
  • In-situ infrared spectroscopy of oxidation process of amorphous carbon film, depending on substrate temperatures
    2011年
  • In-situ Monitoring of Plasma-induced Reactions with Infrared Spectroscopy
    2011年
  • Fine Wire Stripping by Triangle-type Magnetron Plasmas
    2011年
  • In-situ Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions
    2011年
  • Infrared spectroscopic Study of Plasma Induced Surface Reactions
    2011年
  • Thermal flux measuement into substrate during ICPsputtering
    2011年
  • Absorption measurement of supttered Al atoms with LED
    2011年
  • Development of Multi-plasma Type Wire Stripper
    2011年
  • Removal of Brass of saw wire using coaxial magnetron plasma
    2011年
  • Substrate Tempaerature Dependence of Oxidation of Amorphous Carbon Film
    2011年
  • Substrate Bias Dependence of Interaction between Hydrogen Plasma and Si surface
    2011年
  • Substrate Temperature Dependence of Hydrogen Plasma Exposure Effect on Si substrate
    2011年
  • Analysis of mechanism of defect generation induced by interaction between plasma and silicon
    2011年
  • Analysis of Mechnism of defect generation induced by interaction between plasma Si surface
    2011年
  • Analysis of Mechnism of defect generation induced by interaction between plasma Si surface No.2
    2011年
  • Reaction of Oxygen Plasma with Amorphous Carbon Films
    日本MRS学術シンポジウム, 2010年
  • ワイヤストリッピング用同軸マグネトロン型トライアングルプラズマのギャップ長依存性
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • 温度平衡型サーマルプローブの時間応筓特性解析による熱流束測定の時間短縮
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • 三相交流トライアングルプラズマの放電特性とワイヤストリッピングへの応用
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • 水素プラズマ照射によるシリコンの欠陥生成に及ぼす基板バイアス依存性
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • マルチトライアングル電極型ワイヤストリッピング用プラズマの放電電流密度分布
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • LEDを用いたスパッタAl原子の吸収スペクトル測定
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • 重水素プラズマとアモルファス炭素薄膜の表面反応の「その場」「実時間」計測
    プラズマ・核融合学会九州・山口・沖縄支部支部会, 2010年
  • Al添加ZnO薄膜のICP支援スパッタにおける金属原子密度吸収分光測定の信頼性
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • 紫外LEDを用いたスパッタAl原子吸収スペクトルの多チャンネル計測
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • 熱流束捕集面積がサーマルプローブの時間応答特性に及ぼす影響
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • マルチハイブリッドプラズマ型ワイヤストリッパーの開発
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • 同軸マグネトロンプラズマを用いたワイヤ表面ブラスめっき除去に関する研究
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • 三相交流トライアングルプラズマを用いたソーワイヤ表面のブラスメッキ除去
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • 酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化過程における基板温度依存性
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • Si基板に対するHプラズマ処理効果
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2010年
  • Deposition of Transparent Conducting Al-Doped ZnO Thin Films by ICP-Assisted Sputtering
    IEEE TENCON 2010, 2010年
  • Thermal Probe Measurements of Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition,
    IEEE TENCON 2010, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Hydrogen Plasma Induced Surface Reaction
    IEEE TENCON 2010, 2010年
  • プラスマプロセスにおける「その場・実時間・表面反応解析
    九州山口プラズマ研究会, 2010年
  • トライアングルプラズマによるワイヤストリッパーの開発
    九州山口プラズマ研究会, 2010年
  • Substrate temperature effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma, investigated infrared spectroscopy
    7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference, 2010年
  • Infrared Spectroscopic Study on Oxidation of Carbon Related Materials for Environmental Solution
    7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference, 2010年
  • Infrared spectroscopic study on substrate bias effects on amorphous carbon deposition process during acetylene plasma
    7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference, 2010年
  • Energy Flux onto a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition
    7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference, 2010年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    7th International Conference on Reactive Plasma, 28th Symposium on Plasma Processing, and 63rd Gaseous Electronics Conference, 2010年
  • 重水素プラズマとアモルファス炭素薄膜表面との反応の基板温度依存性
    応用物理学会学術講演会, 2010年
  • アモルファス炭素薄膜の成長過程の基板温度依存性
    応用物理学会学術講演会, 2010年
  • 紫外LED を用いたスパッタAl 原子密度の吸収計測
    応用物理学会学術講演会, 2010年
  • プラズマプロセスにおける「その場・実時間」反応過程解析
    応用物理学会学術講演会, 2010年
  • 三相交流トライアングルプラズマの放電形態の解析
    応用物理学会学術講演会, 2010年
  • プラズマ-シリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明
    第15回九州薄膜表面研究会, 2010年
  • Substrate Temperature Effects on Behavior of Surface Hydrogen during Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy
    SPSM (Symposium of Plasma Science and Materials), 2010年
  • Fine Wire Stripping by Line-shaped Triangle-type Plasmas
    Asian-Pasific Conference of Plasma Science and Technology (APCPST), 2010年
  • Energy influx to a substrate during inductively-coupled-plasma assisted sputtering
    Asian-Pasific Conference of Plasma Science and Technology (APCPST), 2010年
  • Discharge Characteristics of Three-Phase AC Triangle Plasmas for Wire Surface Treatment
    JSST2010, 2010年
  • Oxidation process of amorphous carbon film due to oxygen plasma, investigated with infrared spectroscopy
    JSST2010, 2010年
  • 多重内部反射赤外分光法を用いたプラズマ誘起表面反応の観察
    第15回九州薄膜表面研究会, 2010年
  • Investigation of amorphous carbon film deposition process
    1st International Workshop on Plasma Scientech for All Something, 2010年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタ過程における基板入射熱流束
    応用物理学会連合講演会, 2010年
  • Al添加ZnO薄膜のICP支援スパッタ過程における金属原子の挙動
    応用物理学会連合講演会, 2010年
  • 酸素によるアモルファス炭素膜の酸化過程
    応用物理学会連合講演会, 2010年
  • 液中プラズマを用いたアモルファス炭素膜の細管内面コーティング
    応用物理学会連合講演会, 2010年
  • DLC Coating to Extra Fine Wire by Quadrupole Magnetron Plasmas and CVD&PVD Hybrid Method
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Influence of Substrate Bias Voltage on Deposition Rate and Refractive Index of Hydrocarbon Thin Films
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Heat Influx to a Substrate during ICP Assisted Sputter-Deposition
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Measurement of Gas Phase Metal Atom Densities during ICP Assisted Sputter-Deposition Process of Al-Doped ZnO Thin Films
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Fine Wire Stripping by Hybrid Plasmas at Medium Pressures
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Oxidation process of an amorphous carbon film
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Generation of Three-Phase AC Triangle Plasmas for Fine Wire Stripping
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Interactions between Hydrogen Plasma and Amorphous Carbon Films
    Symposium on Plasma Processing 2010, 2010年
  • Thermal probe measurements of energy flux onto a substrate in inductively coupled plasmas
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Measurement of metal atom densities during sputter-deposition of Al-doped ZnO thin films
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Generation of Three-Phase AC Triangle Plasmas for Fine Wire Stripping
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Fine Wire Stripping by Hybrid Plasmas at Medium Pressures
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • DLC Coating on Extra Fine Wire by Quadrupole Magnetron Plasmas and CVD&PVD Hybrid Method
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Diamond Coating on Extra Fine Wire by Quadrupole Magnetron Plasmas
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Plasma generation in organic solvent for amorphous carbon Film deposition inside a narrow tube
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Oxidation process of amorphous carbon film due to oxygen plasma, investigated with infrared spectroscopy
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Effects of hydrogen plasma exposure on amorphous carbon film surface, investigated with infrared spectroscopy
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2010, 2010年
  • Analysis of defect generation mechanizm due ro the interaction between plasma and Si surface
    2010年
  • Substrate Temperature Effects on Behavior of Surface Hydrogen during Plasma, Investigated with Infrared Spectroscopy
    2010年
  • Infrared Spectroscopy of Plasma Induced Surface Reactions
    2010年
  • 酸素プラズマによるアモルファス炭素薄膜の酸化
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • 四重極マグネトロンプラズマを用いた極細ワイヤへのナノダイヤモンド合成
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • 四重極マグネトロンプラズマを用いたCVD &PVD ハイブリッド法による極細ワイヤへのDLC コーティング
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • ワイヤストリッピング用三相交流トライアングルプラズマの放電特性
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • ICP 支援スパッタによるAl 添加ZnO 薄膜作成過程における金属原子密度の吸収分光計測
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • 中気圧ハイブリッドプラズマを用いたCuZnO ワイヤエッチング
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • ICP 支援マグネトロンスパッタ過程におけるサーマルプローブによる熱流束測定
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • 水素プラズマによるアモルファス炭素薄膜のエッチング過程
    プラズマ核融合学会九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会, 2009年
  • Advanced Plasma CVD Processing and Diagnostics for Medical Uses
    TACT 2009 International Thin Films Conference (TACT 2009), 2009年
  • Substrate Bias Effects on Amorphous Carbon Film Deposition
    19th Academic Symposium of MRS-Japan 2009, 2009年
  • Amorphous Carbon Deposition Using Plasma in Organic Solvent
    19th Academic Symposium of MRS-Japan 2009, 2009年
  • Oxidation Process of Amorphous Carbon Film, Investigated with Infrared Spectroscopy
    19th Academic Symposium of MRS-Japan 2009, 2009年
  • Interaction of hydrogen plasma with amorphous carbon films deposited using acetylene plasma
    19th Academic Symposium of MRS-Japan 2009, 2009年
  • Investigation of Deposition Process of Amorphous carbon film using acetylene plasma
    19th Academic Symposium of MRS-Japan 2009, 2009年
  • Al添加ZnO薄膜のICP支援マグネトロンスパッタにおける金属原子密度の吸収分光計測
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2009年
  • 誘導結合プラズマ支援マグネトロンスパッタ過程における熱流速測定
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2009年
  • 光干渉法による炭化水素薄膜形成過程のその場モニタリング
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2009年
  • 酸素プラズマを用いたアモルファス炭素薄膜への水酸基の導入
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2009年
  • アモルファス炭素薄膜の水素プラズマによるエッチング過程
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2009年
  • アセチレンを原料として用いたプラズマCVD法によるアモルファス炭素膜の成膜反応
    表面科学会講演大会, 2009年
  • 酸素分子・酸素プラズマによるアモルファス炭素膜の酸化反応
    表面科学会講演大会, 2009年
  • 誘導結合プラズマ支援マグネトロンスパッタ過程における熱流束の測定
    電気関係学会九州支部連合大会, 2009年
  • Al 添加ZnO 薄膜のICP 支援マグネトロンスパッタにおける金属原子密度の吸収分光計測
    電気関係学会九州支部連合大会, 2009年
  • 光反射干渉法によるDLC 薄膜形成過程のその場モニタリング
    電気関係学会九州支部連合大会, 2009年
  • Absorption Measurement of Metal Atom Density in ICP Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    Dry Process Symposium, 2009年
  • Monitoring of Growth and Removal of Hydrocarbon Thin Films by Optical Reflectance Interference
    Dry Process Symposium, 2009年
  • LOW PRESSURE MICRO PLASMA GENERATION IN A MAGNETIZED FIELD
    7th International Workshop on "Microwave Discharges: Fundamentals and Applications, 2009年
  • Infrared spectroscopic study on amorphous carbon deposition process using acetylene plasma
    Plasma Surface Engineering in Asia, 2009年
  • Interaction of hydrogen plasma with an amorphous carbon deposition process using acetylene plasma
    Plasma Surface Engineering in Asia, 2009年
  • Diagnostic Study of ICP Assisted Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    International Symposium on Plasma Chemistry 19, 2009年
  • Dependences of growth process of amorphous carbon films on the different source gases: methane and acetylene
    International Symposium on Plasma Chemistry 19, 2009年
  • LOW PRESSURE MICRO PLASMA GENERATION BY ECR RELATED MAGNETIZED PLASMAS
    17th International Colloquium on PLASMA PROCESSES, 2009年
  • Absorption Measurement of Metal Atom Density during ICP-Assisted Magnetron Sputter-Deposition of Al-doped ZnO Thin Films
    22nd Symposium on Plasma Science for Materials, 2009年
  • Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases
    22nd Symposium on Plasma Science for Materials, 2009年
  • 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程の違い
    第14回九州薄膜表面研究会(九州表面・真空研究会2009), 2009年
  • 原料によるアモルファス炭素膜の堆積過程の違い
    電気学会プラズマ研究会, 2009年
  • アセチレンプラズマを用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の基板バイアス依存性
    電気学会プラズマ研究会, 2009年
  • 準共鳴ECR条件における固体壁マイクロプラズマの効率的生成
    応用物理学関係連合講演会, 2009年
  • アセチレンを原料として用いたアモルファス炭素膜堆積
    応用物理学関係連合講演会, 2009年
  • Influence of hydrogen addition on the electrical and optical properties of Al-doped ZnO thin films deposited by ICP assisted sputtering
    Plasma Science Symposuim 2009, 2009年
  • Simple monitoring of deposition/removal processes of hydrocarbon thin films by optical reflectance interferometry
    Plasma Science Symposuim 2009, 2009年
  • Plasma diagnostics in ICP assisted sputter-deposition process of Al-doped ZnO thin films
    Plasma Science Symposuim 2009, 2009年
  • Trial of surface modification due to solution plasma
    Plasma Science Symposuim 2009, 2009年
  • Influence of amorphous carbon film deposition on source gases
    Plasma Science Symposuim 2009, 2009年
  • Surface Modification due to Solution Plasma
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Source Molecular Effect on Amorphous Carbon Film Deposition
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Substrate Bias Effect on Deposition Process of Amorphous Carbon Films
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Generation of Micro Plasma Surrounded by Solid Wall for Sub-ECR Condition
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • CVD・PVD Hybrid DLC Coating on Extra Fine Wire by Quadrupole Magnetron Plasmas
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Inner Wall DLC Coating of Narrow Tubes
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Observation of Arcing in DC Magnetron Sputtering of AZO Target
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Absorption measurement of Zn atom density during ICP-assisted magnetron sputter-deposition of Al-doped ZnO thin films
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Influence of hydrogen addition on electric and optical properties of sputter-deposited aluminum-doped zinc oxide thin films
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • Monitoring of Chemical Vapor Deposition Process of Hydrocarbon Thin Films by Optical Reflectance Interferometry
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2009, 2009年
  • LOW PRESSURE MICRO PLASMA GENERATION IN A MAGNETIZED FIELD
    2009年
  • 29. 四重極マグネトロンプラズマを用いた極細ワイヤへのCVDPVDハイブリッドDLCコーティング
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • 準共鳴ECRにおける固体壁マイクロプラズマの生成
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • 原料ガスによるアモルファス炭素薄膜の成長過程のちがい
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • アモルファス炭素薄膜の成長過程におけるバイアス効果
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • Al 添加ZnO 薄膜の誘導結合プラズマ支援マグネトロンスパッタにおけるZn 原子密度の吸収分光計測
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • AZO ターゲットを用いたDC マグネトロンスパッタリングにおけるカソードスポットの観測
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • Al 添加ZnO スパッタ薄膜の成膜速度と導電率の水素添加依存性
    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 第11回支部会, 2008年
  • 13. Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma Processing for Bio-application
    13. Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma Processing for Bio-application, 2008年
  • Infrared Study of Interaction between Plasma and Film Surface
    Memorial Symposium on Nano-Dynamics AGREEMENT ON ACADEMIC COOPERATION BETWEEN NAGASAKI UNIVERSITY AND UNIVERSITY OF BARI, 2008年
  • Al添加ZnOターゲットの直流マグネトロンスパッタにおけるアーキングの観察
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • MgOコート電極を用いた低気圧マイクロプラズマの生成とその効果
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • アモルファス炭素薄膜の成膜プロセスに及ぼすバイアス効果
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • アセチレンとメタンで成膜したアモルファス炭素膜の成長過程の比較
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • 2nd Harmonic ECRマイクロプラズマを用いた細管内壁面へのDLCコーティングに及ぼすRFバイアス効果
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • 17. 四重極マグネトロンプラズマを用いた極細ワイヤへのCVD・PVDハイブリッドDLCコーティング
    応用物理学会九州支部学術講演会講演会, 2008年
  • DLC成膜プロセスの制御と新規製造法の開発
    長崎大学コラボ産学官交流会2008, 2008年
  • Growth Mechanism of Diamond-like Carbon film
    the 55th International Syposium of American Vacuum Society, 2008年
  • The 2nd Harmonic ECR Microplasma in Narrow Closed Space for Low Pressure Conditions
    61st Annual Gaseous Electronics Conference, 2008年
  • AZOターゲットを用いたマグネトロンカソードにおけるアークスポットの挙動
    電気関係学会九州支部連合大会, 2008年
  • アクチノメトリ法によるDLC 薄膜形成用プラズマ中の水素原子密度測定
    電気関係学会九州支部連合大会, 2008年
  • 誘導結合プラズマ支援マグネトロンスパッタ法によるAl添加ZnO薄膜の成膜条件の最適化
    電気関係学会九州支部連合大会, 2008年
  • Al添加ZnO薄膜のICP支援スパッタ成膜プロセスにおける水素添加の影響
    電気関係学会九州支部連合大会, 2008年
  • DEPOSITION OF ALUMINUM DOPED ZINC OXIDE THIN FILM USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ASSISTED SPUTTERING
    International Congress on Plasma Physics 2008 (ICPP2008), 2008年
  • INVESITGATTION OF GROWTH PROCESS AMORPHOUS CARBON FILM DURING PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
    International Congress on Plasma Physics 2008 (ICPP2008), 2008年
  • Al 添加ZnO ターゲットを用いたマグネトロンスパッタにおけるアーキング現象の観察
    応用物理学会学術講演会, 2008年
  • メタン・水素ICP 中水素原子密度のアクチノメトリ法による測定
    応用物理学会学術講演会, 2008年
  • アモルファス炭素膜堆積の基板温度依存性
    表面技術協会講演会, 2008年
  • アモルファス炭素膜の成膜機構
    電気学会プラズマ研究会, 2008年
  • アモルファス炭素膜の成長の赤外分光解析
    第12回九州薄膜・表面研究会, 2008年
  • Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma CVD Process
    INTERFINISH2008-17th World Congress & Exposition, 2008年
  • DEPOSITION OF ALUMINUM-DOPED ZINC OXIDE THIN FILMS USING ICP ASSISTED SPUTTERING
    JSST 2008, 2008年
  • 表面水素の反応制御によるダイアモンド・ライク カーボン薄膜のプラズマ化学気相堆積の制御
    花王芸術・科学財団成果発表会, 2008年
  • アモルファス炭素膜の成膜中における水素の引き抜き効果
    応用物理学会連合講演会, 2008年
  • マイクロプラズマ源の開発
    平成19年度長崎大学コラボ産学官交流会, 2008年
  • DLC膜の成膜法の開発
    平成19年度長崎大学コラボ産学官交流会, 2008年
  • Investigation of Deposition Process of Amorphous carbon Film
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2008, 2008年
  • Generation of Solution Plasma for Surface Treatment
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2008, 2008年
  • Low-Pressure Micro Plasma Generation Using Microwave in a Mirror Magnetic Field
    Nagasaki Symposium on Nano-Dynamics 2008, 2008年
  • スパッタAZO薄膜抵抗率分布のICP支援による平坦化
    the 25th Symposium of Plasma Processing, 2008年
  • アモルファス炭素膜からの水素の引き抜き効果の基板温度依存性
    the 25th Symposium of Plasma Processing, 2008年
  • アモルファス炭素膜のプラズマ成膜プロセスの赤外分光法観察
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2007年
  • Investigation of Interaction between Hydrogen Plasma and Amorphous Carbon Films
    the International Conference of Advanced Matreials and Devices (ICAMD2007), 2007年
  • アクチノメトリ法による炭化水素プラズマ中の水素原子密度測定
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2007年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタ成膜時の基板温度上昇
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2007年
  • アモルファス炭素膜の水素引き抜き効果の基板温度依存性
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2007年
  • 水素プラズマによるアモルファス炭素膜のエッチング特性
    応用物理学会九州支部学術講演会, 2007年
  • Infrared Spectroscopic Investigation on Hydrogen Plasma Etching,
    the 5th Asia-Pacific International Symposium on Basics and Applications of Plasma Technology, 2007年
  • Plasma-Induced Subsurface Reactions in Plasma Processing
    the 5th Asia-Pacific International Symposium on Basics and Applications of Plasma Technology, 2007年
  • 19. 表面反応,水素含有量,Si-DLC,フレキシブルDLC~アモルファス炭素膜の表面反応を中心に~
    日本学術振興会プラズマ材料科学153委員会研究会, 2007年
  • Infrared spectroscopic study of behavior of hydrogen in silicon
    29th international Symposium of Dry Procressing, 2007年
  • Influence of RF power on the film properties of aluminum doped zinc oxide deposited by inductively coupled plasma assisted sputtering
    29th international Symposium of Dry Procressing, 2007年
  • プラズマCVD法を用いたアモルファス炭素膜の堆積過程の赤外分光法観察
    九州山口プラズマ研究会, 2007年
  • アルミ添加酸化亜鉛スパッタ薄膜の導電性に及ぼす誘導結合プラズマ支援効果
    応用物理学会九州支部シンポジウム, 2007年
  • プラズマ-固体表面相互作用の赤外分光計測
    応用物理学会九州支部シンポジウム, 2007年
  • Tube Inner Functional Coatings by Low-Pressure Microplasmas
    the First International Workshop on Nanotechnology and Applications, 2007年
  • Microplasmas and Their Application to Tube Inner Coating
    International Workshop on Microplasma, 2007年
  • Sputter-Deposition of Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Magnetron Sputtering
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • LOW-PRESSURE MICRO PLASMA GENERATION USING MICROWAVE IN A MIRROR MAGNETIC FIELD
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • Measurements of H density in H2/Ar and CH4/Ar Inductively Coupled Plasmas Using Conventional Actinometry
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • DEFFERENCE OF ETCHING OF AMORPHOUS CARBON FILMS BETWEEN BY HYDROGEN IONS AND BY HYDROGEN RADICALS
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • EFFECTS OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON HYDROGEN PLASMA ETCHING OF AMORPHOUS CARBON FILMS
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • EFFECTS OF SUBSTRATE TEMPERATURE ON AMORPHOUS CARBON FILM GOWRTH, INVESTIGATED INFRARED SPECTROSCOPY
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2007年
  • 低気圧マイクロプラズマの生成とその機能性薄膜作成プロセスへの応用
    表面技術協会講演大会, 2007年
  • 誘導結合プラズマ支援によるAl添加ZnOスパッタ薄膜の導電性向上
    応用物理学会秋季学術講演会, 2007年
  • 水素プラズマ処理によるアモルファス炭素膜中の水素吸着状態の変化(2)
    応用物理学会秋季学術講演会, 2007年
  • Sputter-Deposition of Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films Assisted by Inductively Coupled Plasma
    18th International symposium on plasma chemistry,, 2007年
  • Concentration Measurement of H density in H2/Ar and CH4/Ar ICPs by Optical Actinometry
    18th International symposium on plasma chemistry,, 2007年
  • Dependence of Adsorption of Hydrocarbon Species during PECVD on Substrate Temperatures
    18th International symposium on plasma chemistry,, 2007年
  • Investigation of interaction of hydrogen plasma with amorphous carbon film
    18th International symposium on plasma chemistry,, 2007年
  • Tube Inner Sputter Coating by Low-Pressure Microplasmas
    the 20th Symposium of plasma science for Materials, 2007年
  • アモルファス炭素膜と水素プラズマの反応過程の赤外分光解析
    第12回九州薄膜・表面研究会, 2007年
  • Al添加ZnOスパッタ薄膜の導電性と成膜速度に及ぼす誘導結合プラズマ支援効果
    応用物理学会連合講演会, 2007年
  • H2/Ar-ICP中水素原子密度とCH4/Ar-ICP中水素原子密度とのアクチノメトリ法による比較
    応用物理学会連合講演会, 2007年
  • 水素プラズマ処理によるアモルファス炭素膜中の水素吸着状態の変化
    応用物理学会連合講演会, 2007年
  • 炭素材料プロセスにおける炭化水素種の吸着状態の赤外分光解析
    大阪大学接合科学研究所 特別講演会・研究集会, 2007年
  • 極細管内壁フレキシブルDLCコーティングプロセス
    大阪大学接合科学研究所 特別講演会・研究集会, 2007年
  • Dependence of adsorption of hydrocarbon species generated in a methane plasma on substrate temperatures
    the 24th Symposium of Plasma Processing, 2007年
  • Effects of hydrogen plasma treatment on amorphous carbon films
    the 24th Symposium of Plasma Processing, 2007年
  • Comparison of H density in Hydrogen/Ar and Methane/Ar ICPs
    the 24th Symposium of Plasma Processing, 2007年
  • Deposition of AZO Thin Films by ICP Assisted Magnetron Sputtering
    the 24th Symposium of Plasma Processing, 2007年
  • アクチノメトリ法による炭化水素プラズマ中の水素原子密度測定
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2006年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリングによるAZO薄膜の低温形成
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2006年
  • アモルファス炭素膜の水素プラズマ処理
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2006年
  • プラズマCVD法を用いたDLC薄膜形成過程の赤外分光解析
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2006年
  • 19 Low Temperature Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Thin Films by ICP Assisted Sputtering
    第16回日本MRS学術シンポジウム, 2006年
  • Effects of Substrate Temperatures on Adsorption of Hydrocarbon Species Generated in Methane Plasma
    第16回日本MRS学術シンポジウム, 2006年
  • Interaction of Hydrogen Plasma with Hydrocarbon Species
    第16回日本MRS学術シンポジウム, 2006年
  • 水素化アモルファス炭素薄膜形成過程の基板温度依存性
    応物学会九州支部学術講演会, 2006年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタによるアルミ添加酸化亜鉛薄膜の形成
    九州山口プラズマ研究会(11月4-5日), 2006年
  • 13 「生体分子・半導体複合デバイス」を目指したアモルファス炭素膜の形成およびその成長メカニズムの理解
    応物シンポジウム, 2006年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリング法を用いたAlドープ酸化亜鉛薄膜形成
    応物シンポジウム, 2006年
  • 医療用ツールへの応用を目指した極細管内壁コーティング法の開発
    表面技術協会ナノテク部会研究会, 2006年
  • PECVD法による炭素系薄膜形成の理解のためのリアルタイム赤外分光解析
    表面技術協会ナノテク部会研究会, 2006年
  • 走査型2ndハーモニックECRマイクロプラズマを用いた細管内壁コーティング
    応用物理学会秋季学術講演会, 2006年
  • アモルファス炭素薄膜成膜における基板温度依存性
    応用物理学会秋季学術講演会, 2006年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリングを用いたAl 添加ZnO 薄膜の形成
    応用物理学会秋季学術講演会, 2006年
  • 炭化水素誘導結合プラズマ中の水素原子密度のアクチノメトリによる評価
    応用物理学会秋季学術講演会, 2006年
  • Discharge characteristics of inductively-coupled-plasma assisted dc planar magnetron for the deposition of aluminum-doped zinc oxide thin films
    第8回プラズマ科学技術に関するアジア・太平洋会議(8th APCPST), 2006年
  • Measurements of atomic hydrogen concentrations in H2/Ar and CH4/Ar inductively coupled plasmas using conventional actinometry
    第8回プラズマ科学技術に関するアジア・太平洋会議(8th APCPST), 2006年
  • Interaction between hydrogen plasma and carbon film, investigated by infrared spectroscopy
    第8回プラズマ科学技術に関するアジア・太平洋会議(8th APCPST), 2006年
  • Effects of the substrate temperatures on the chemical bonding configuration of hydrocarbon species in carbon films, investigated by infrared spectroscopy
    第8回プラズマ科学技術に関するアジア・太平洋会議(8th APCPST), 2006年
  • Oxygen plasma induced decomposition of organosilane molecules
    第8回プラズマ科学技術に関するアジア・太平洋会議(8th APCPST), 2006年
  • 低気圧マイクロプラズマによる極細管内壁コーティング
    第11回九州薄膜・表面研究会 (兼 応用物理学会九州支部研究会), 2006年
  • 水素化アモルファス炭素膜の成長反応過程の赤外分光観察
    第11回九州薄膜・表面研究会 (兼 応用物理学会九州支部研究会), 2006年
  • FUNCTIONAL SPUTTER-COATINGS OF INNER SURFACE OF NARROW TUBES BY THE SECOND HARMONIC ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE PLASMA
    JSST 2004, 2006年
  • Evolution of hydride species on silicon surface during plasma and post-annealing
    JSST 2004, 2006年
  • Sputter Deposition of AZO Thin Films Assisted with Inductively Coupled Plasma
    JSST 2004, 2006年
  • MgO電極を用いた低気圧マイクロプラズマの特性
    応用物理学会連合講演会, 2006年
  • ミラー磁界型セカンドハーモニックECRによる低気圧マイクロプラズマの特性
    応用物理学会連合講演会, 2006年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリングで形成したAZO薄膜の結晶配向性
    応用物理学会連合講演会, 2006年
  • 基板バイアスによるDLC薄膜形成中での炭化水素の吸着状態の変化とその成因
    応用物理学会連合講演会, 2006年
  • Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering
    ICRP-SPP, 2006年
  • Controllability of bonding configurations of hydrocarbon species in amorphous carbon films
    ICRP-SPP, 2006年
  • Interaction between hydrogen plasma and carbon film, investigated by infrared spectroscopy
    2006年
  • Effects of the substrate temperatures on the chemical bonding configuration of hydrocarbon species in carbon films, investigated by infrared spectroscopy
    2006年
  • Oxygen plasma induced decomposition of organosilane molecules
    2006年
  • Evolution of hydride species on silicon surface during plasma and post-annealing
    2006年
  • Sputter Deposition of AZO Thin Films Assisted with Inductively Coupled Plasma
    2006年
  • Deposition of Aluminum Doped Zinc Oxide Films by Inductively Coupled Plasma Assisted Sputtering
    2006年
  • Controllability of bonding configurations of hydrocarbon species in amorphous carbon films
    2006年
  • ICP支援マグネトロンスパッタ法により作成したAl添加ZnO薄膜の基板面内均一性
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2005年
  • 有機シリコン分子のプラズマ分解過程
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2005年
  • プラズマCVD法を用いたDLC薄膜形成過程の赤外分光解析
    プラズマ核融合学会九州支部大会, 2005年
  • Oxygen Plasma Induced Decomposition of Organosilicon Molecules
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2005年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Magnesium Oxide Thin Films
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2005年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2005年
  • Deposition Process of Hydrocarbon Species Generated in Hydrocarbon Plasma and Its Thermal Decomposition
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2005年
  • Growth mechanisms of carbon related films deposited by a plasma CVD method and application of the films to DNA identification
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2005年
  • Oxygen plasma induced decomposition of BTMSM and HMDSO molecules
    ICAMD2005, 2005年
  • Aluminium Doped Zinc Oxide Films Deposition Using Inductively Coupled Plasma Assisted Magnetron Sputtering
    The 27th INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON DRY PROCESS (DPS 2005), 2005年
  • ダイヤモンド状炭素薄膜成長過程への基板バイアスの効果
    応物学会九州支部学術講演会, 2005年
  • 酸素プラズマ照射による有機シリコン分子の分解
    応物学会九州支部学術講演会, 2005年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタによる酸化物薄膜の室温形成
    九州山口プラズマ研究会, 2005年
  • FT-IRによる有機シリコン分子のプラズマ分解過程の観測
    応物シンポジウム, 2005年
  • 赤外吸収分光法を用いたDLC薄膜成長過程の表面反応解析
    応物シンポジウム, 2005年
  • In-situ/real time観察によるプラズマ中の材料堆積
    応物シンポジウム, 2005年
  • INFLUENCE OF RF POWER AND SUBSTRATE BIAS VOLTAGE ON THE PROPERTIES OF MAGNEISIUM OXIDE THIN FILMS PRODUCED BY ICP-ASSISTED REACTIVE SPUTTERING
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2005年
  • PULSED SPUTTER-COATING OF INSIDE WALL OF NARROW TUBE BY THE 2ND HARMONIC ECR PLASMAS
    Asian and Europe Plasma Surface Engineering, 2005年
  • Narrow Tube Inner Coating by Low Pressure Micro Plasma Sputtering
    17th International symposium on plasma chemistry,, 2005年
  • The 2nd Harmonic ECR Low Pressure Micro Plasmas
    17th International symposium on plasma chemistry,, 2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    17th International symposium on plasma chemistry,, 2005年
  • FTIR observation of hydrogen desorption from SiH4 adsorbed SiGe(001) surfaces
    First International WorkShop on New Group IV Semiconductor Nanoelectronics,, 2005年
  • Hydrogen Desorption from SiH4 Adsorbed SiGe(001) Surfaces
    Fourth International Conference on Silicon Epitaxy and Heterostructures (ICSI-4), 2005年
  • 誘導結合プラズマ支援反応性スパッタ成膜における基板入射粒子の質量分析
    応用物理学関係連合講演会, 2005年
  • 誘導結合プラズマ支援スパッタリングによるアルミ添加酸化亜鉛(AZO)薄膜の形成
    応用物理学関係連合講演会, 2005年
  • SiGe(001) 2 x 1 表面上のSiH4 吸着過程
    日本表面科学会東北支部講演会, 2005年
  • Oxide Thin Film Deposition Using Inductively-Coupled Plasma Assisted Sputtering
    Plasma Science Symposium 2005, 2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    Plasma Science Symposium 2005, 2005年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Magnesium Oxide Thin Films
    2005年
  • Inductively Coupled Plasma Assisted Sputter-Deposition of Aluminum-Doped Zinc Oxide Thin Films
    2005年
  • Deposition Process of Hydrocarbon Species Generated in Hydrocarbon Plasma and Its Thermal Decomposition
    2005年
  • Growth mechanisms of carbon related films deposited by a plasma CVD method and application of the films to DNA identification
    2005年
  • Oxygen plasma induced decomposition of BTMSM and HMDSO molecules
    2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma
    2005年
  • FTIR observation of hydrogen desorption from SiH4 adsorbed SiGe(001) surfaces
    2005年
  • Hydrogen Desorption from SiH4 Adsorbed SiGe(001) Surfaces
    2005年
  • Infrared spectroscopic study of the deposition process using methane plasma method and application of the films to DNA identification
    2005年
  • セカンドハーモニックECRを用いた低気圧マイクロプラズマ源とその応用
    第15回日本MRS学術シンポジウム, 2004年
  • サブサーフェスとプラズマ
    プラズマ・核融合学会第21回年会講演会, 2004年
  • 2nd Harmonic ECRによる低気圧マイクロプラズマの特性
    プラズマ・核融合学会第21回年会講演会, 2004年
  • プラズマ-表面反応プロセスにおける水素の反応ダイナミクス
    九州山口プラズマ研究会(11月4-5日), 2004年
  • インテリジェントプラズマプロセスによるシリコンウエハクリーニング洗浄の開発に向けて
    2004年(第5回)全九州半導体技術フォーラムin宮崎, 2004年
  • メタンプラズマCVD法による薄膜形成過程の赤外分光解析
    電気学会プラズマ研究会, 2004年
  • 13. 誘導結合プラズマ併用反応性スパッタリング法による酸化物薄膜の低温成膜
    「コラボ産学交流会 in TOKYO (NAGASAKI)」, 2004年
  • SiGe(001)表面上のSiH4吸着過程
    応用物理学会秋季学術講演会, 2004年
  • メタンプラズマで堆積した薄膜の熱処理効果の赤外分光観察
    応用物理学会秋季学術講演会, 2004年
  • 半導体表面上でのプラズマ誘起表面水素反応の赤外分光観察
    プラズマエレクトロニクスサマースクール, 2004年
  • Plasma induced reaction on Si surface hydrogen investigated by infrared spectroscopy
    2004年 Nagasaki Workshop on Next Generation Semiconductor and Processing, 2004年
  • INFLUENCES OF SUBSTRATE BIAS AND TEMPERATURE ON MgO THIN FILMS PRODUCED BY ICP-ASSISTED SPUTTERING
    7th APCPST and 17th SPSM, 2004年
  • EVOLUTION OF HYDRIDE SPECIES ON A SILICON SURFACE DURING METHANE PLASMA INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    7th APCPST and 17th SPSM, 2004年
  • THERMAL DECOMPOSITION OF HYDRIDE SPECIES ON A HYDROGENATED CARBON FILM DEPOSITED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
    7th APSPCT and 17th SPSM, 2004年
  • 半導体表面上でのプラズマ誘起表面水素反応の赤外分光観察
    第9回九州薄膜・表面研究会, 2004年
  • GROWTH PROCESS OF DLC FILMS INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    JSST 2004, 2004年
  • メタンプラズマを用いた薄膜形成過程における炭化水素の結合状態の赤外分光法観察
    応用物理学関係連合講演会, 2004年
  • X-ray diffraction of magnesium oxide thin films produced by reactive ionized sputtering
    Symposium of Plasma Processing 2004, 2004年
  • Behavior of hydrogen on Si surface during oxygen-plasma
    Symposium of Plasma Processing 2004, 2004年
  • 2nd Harmonic ECR plasma at Low pressure and its application
    2004年
  • Sibsurface and Plasma
    2004年
  • Characteristics of low pressure micro-plasma using 2nd Harmonic
    2004年
  • Infrared spectroscopy of growth process of diamond like carbon film using methane plasma-CVD
    2004年
  • Adsorption of Silane on SiGe(001) surface
    2004年
  • Thermal treatment of the film deposited by methane plasma, investigated by infrared spectroscopy
    2004年
  • Plasma induced hydrogen reaction on Si surface investigated by infrared spectroscopy
    2004年
  • Plasma induced reaction on Si surface hydrogen investigated by infrared spectroscopy
    2004年
  • EVOLUTION OF HYDRIDE SPECIES ON A SILICON SURFACE DURING METHANE PLASMA INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    2004年
  • THERMAL DECOMPOSITION OF HYDRIDE SPECIES ON A HYDROGENATED CARBON FILM DEPOSITED BY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION
    2004年
  • Surface hydrogenreaction on semiconductor surface investigated by infrared spectroscopy
    2004年
  • GROWTH PROCESS OF DLC FILMS INVESTIGATED BY IN-SITU INFRARED SPECTROSCOPY
    2004年
■ 所属学協会
  • 日本MRS
  • 表面技術協会
  • 電子情報通信学会
  • アメリカ真空学会
  • 表面科学会
  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
  • 応用物理学会
  • Information and Communication Engineering
  • Society of Electronica
  • American Vacuum Society
  • Society of Japan Surface Science
  • Plasama electronics Branch of Society of Applied Phyics
  • Society of Applied Phyics
■ Works_作品等
  • プラズマ-シリコン表面相互作用で誘起される欠陥生成メカニズムの解明
    2010年, 2012年
  • 「プラズマプロセスの制御によるアモルファス炭素膜の揺らぎのない成膜プロセスの創成
    2008年, 2012年
  • 生体親和性DLC形成メカニズムの解明
    2008年, 2009年
  • 液中プラズマを用いた医療用チューブ内面へのDLCコーティング技術の創成
    2008年, 2009年
  • ダイヤモンド・ライク カーボン薄膜成長メカニズムの解明
    2008年, 2009年
  • Investigation of the growth mechanism of bio-compatible DLC films
    2008年, 2009年
  • 表面水素の反応制御によるダイアモンド・ライク・カーボン薄膜のプラズマ化学気相堆積の制御
    2007年, 2008年
  • 赤外分光法を用いたDLC形成メカニズムの解明
    2006年, 2008年
  • 固体壁微小空間における高電離度マイクロプラズマの生成
    2006年, 2008年
  • 「歯科治療用プラズマプロセスの開発」
    2006年, 2008年
  • チューブの中のプラズマプロセス診断技術と膜堆積技術の創製によるチューブの高機能化
    2006年, 2008年
  • Investigation of the growth mechanism of DLC film, using infrared spectroscopy
    2006年, 2008年
  • CVD法によるDLC形成メカニズムの解明
    2006年, 2007年
  • Investigation of the growth mechanism of DLC films prepared with CVD method
    2006年, 2007年
  • ハーモニックECRプラズマによる極細管内壁コーティング法の研究
    2005年, 2007年
  • 国際会議(AEPSE2007)開催助成
    2007年
  • 国際会議(AEPSE2007)開催助成
    2007年
  • 国際会議(AEPSE2007)開催助成 (2007.2) 10万円 採択
    2007年
  • DLC形成メカニズムの解明
    2005年, 2006年
  • Investigation of the growth mechanism of DLC film
    2005年, 2006年
  • ダイヤモンド・ライク カーボン薄膜成長メカニズムの解明
    2003年, 2004年
  • 第11回 プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト
    2003年, 2004年
  • low-K膜 形成過程の解明
    2003年, 2004年
  • Formation process of low-K films
    2003年, 2004年
  • ダイヤモンド・ライク カーボン薄膜成長メカニズムの解明
    2002年, 2003年
  • 第10回 プラズマエレクトロニクスサマースクールテキスト
    2003年
■ 共同研究・競争的資金等の研究課題
  • 大気圧プラズマが誘起する反応の解明
    科学研究費補助金
    2009年 - 2011年
  • プラズマが誘起するシリコン中の欠陥生成メカニズムの解明
    科学研究費補助金
    2009年 - 2011年
  • Analysis of reactinos induced by air-pressure plasma
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    2009年 - 2011年
  • Analysis of defect-generation in Si induced by plasma
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    2009年 - 2011年
  • 液中プラズマを用いた膜堆積・エッチング
    2008年
  • アモルファス炭素膜の表面修飾法の開発研究
    共同研究
    2008年
  • Deposition and etching, using solution plasma
    2008年
  • Sufrace modification of the amorphous carbon films
    Cooperative Research
    2008年
  • Low-k膜の成膜・エッチング法の開発研究
    共同研究
    2002年 - 2003年
  • The grwoth and etching of Low-k films
    Cooperative Research
    2002年 - 2003年
  • プラズマCVD法を用いた炭素系薄膜の堆積過程の赤外分光法による解明
    科学研究費補助金
    2003年
  • Inrared study oon plasma CVD process of amorphous carbon film
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    2003年
  • SiおよびSiC結晶成長に関する研究
    科学研究費補助金
    1998年 - 2002年
  • Study on crystal growth of Si and SiC
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    1998年 - 2002年
  • アモルファス炭素膜の成膜メカニズムの解明
    共同研究
    2001年
  • 水素プラズマとSi表面水素の相互作用に関する研究
    科学研究費補助金
    2001年
  • プラズマ固体表面相互反応の解析
    科学研究費補助金
    2001年
  • Interaction on hydrogen plasma with Si surfaces
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    2001年
  • Surface Reaction During Plasma CVD
    Grant-in-Aid for Scientific Research
    2001年
  • パイライト薄膜形成に関する研究
    経常研究
    1996年 - 1999年
  • a Study on Growth of Pyrite films
    Ordinary Research
    1996年 - 1999年
■ 産業財産権
  • 親水性炭素質膜の製造方法及び製造装置